Business of Nomura

野村の仕事

表面処理と切削や研磨加工を組み合わせて、新しい技術、新しいモノ作りを切り開くのが
私たちの仕事です。
そしてこれまで、製品開発に挑む多くのお客様の悩みを一緒に解決してきました。
ご採用いただいた「野村鍍金の仕事」のほんの一部をご紹介します。

2016年
 

フィルム

ウェブハンドリング用としてグリップ力を強化した、 特殊マット皮膜 を販売開始しました。

 

加速器

北米向け加速器関連部品に当社の 無光沢ピロリン酸銅めっき が採用されました。

 

品 質

福山工場新規事業課にて航空宇宙産業品質マネジメントシステム規格 JISQ9100:2009 を取得しました。
2015年
 

フィルム

精密切削用皮膜「快削くん」が、岩木トライボコーティングネットワークアワードの”事業賞”を受賞しました。
2014年
 

加速器

国立台湾放射光研究センター様向け加速器関連部品に当社、 無光沢ピロリン酸銅めっき が採用されました。
2013年
 

半導体

コンデンサーメーカー様向け測定プローブで 皮膜「タフコンダクター」が採用され、 ハンダ汚れの問題を解決しました。
2012年
 

製 鉄

耐クラック・耐腐食モールド用溶射皮膜 「TC2」 「TC3」 を販売開始しました。

2011年
 

二次電池

リチウムイオン電池各社様に 高精度プレスロール への R62めっき を提案し、ご採用頂きました。これによりプレスロールの長寿命化に貢献しました。

 

半導体

導電性DLC「タフコンダクター」が、SWTW(米IEEE半導体ウエハーテスト学会)において優秀感銘賞を受賞しました。
2010年
 

フィルム

光学フィルムメーカー各社様に、当社製コーターロールが採用され、量産を開始しました。

 

加速器

高エネルギー加速器研究機構様向け、加速器用カップラーに当社の 無光沢ピロリン酸銅めっき が評価され採用されました。(R&D)

 

フィルム

精密切削メーカーの彦山精機様から、「快削くん」が高く評価され、光学シート用エンボスロールにご採用いただきました。これにより超微細形状の大幅な改善につながったそうです。
2009年
 

製 紙

製紙各社様のコートマシーンに、当社提案の ブレード が採用され、塗工紙の品質向上に貢献しました。
2008年
 

フィルム

光学フィルムメーカー様向けの各種ロールに 鏡面仕上タングステンカーバイト皮膜 の高い光沢性が評価され採用されました。
2007年
 

加速器

高エネルギー加速器研究機構(KEK)様に 当社設計のニオブの電解研磨設備を納入 いたしました。
2006年
 

電子機器

電子機器メーカー様向けの摺動部品に 超高硬度DLC「タフカーボン」 が採用されました。 これによりシリコンチップによる部品損傷の問題が解決されました。
2005年
 

印 刷

オフセット印刷機各社様に、当社の 高親水クロムめっき が採用され、画質が飛躍的に向上しました。
1997年
 

加速器

高エネルギー加速器研究機構(KEK)様向け、Bファクトリー空洞に当社の 光沢ピロリン酸銅めっき 技術が採用され量産開始しました。

1994年
 

原子力

原子力発電プラントの蒸気発生装置に当社の クロムめっき 技術が採用されました。
1993年
 

製 紙

当社のめっきブレードが、塗工紙における品質の向上と生産性の改善を評価され、日本紙パルプ技術協会様より佐々木賞をいただきました。

 

製 鉄

製鉄各社様より、連続鋳造用モールドへの合金めっき 「タフアロイ-Ⅱ」 が採用されました。この皮膜は今日においても連続鋳造モールド保護皮膜のベースロードとなっております。
1991年
 

建 機

光陽精機様に、自動めっき・バフ研磨装置を納入しました。

 

印 刷

印刷機用ロール専用工場を増設し量産を開始しました。
1986年
 

宇 宙

H-Ⅱロケットの主燃焼室に当社の銅電鋳技術が採用され、技術の供与と銅電鋳設備を納入いたしました。

 

加速器

トリスタン計画用加速空洞に当社の 銅めっき技術 及びニオブの電解研磨技術が採用され 納入を開始しました。
1978年
 

製 鉄

製鉄各社様より、連続鋳造用モールドへの合金めっき「タフアロイ-Ⅰ」が採用されました。
1976年
 

海洋開発

海洋科学技術センター様より、高圧実験水槽(しんかいシリーズ用)に当社の ニッケルめっき 技術が採用されました。
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