Business of Nomura

野村の仕事

表面処理と切削や研磨加工を組み合わせて、新しい技術、新しいモノ作りを切り開くのが
私たちの仕事です。
そしてこれまで、製品開発に挑む多くのお客様の悩みを一緒に解決してきました。
ご採用いただいた「野村鍍金の仕事」のほんの一部をご紹介します。

2024年
 

宇 宙

宇宙航空研究開発機構(JAXA)様より H3ロケット開発に貢献したとして表彰 を頂きました。

 

製 鉄

連続鋳造用モールドの腐食対策に「TAP-Ⅱss」 を新規開発致しました。これにより寿命を1.2倍に向上させることが可能になりました。

 

半導体

半導体部品検査用のコンタクトプローブに、当社 DLC「タフコンダクター」 が採用されました。これによりプローブの耐摩耗性が飛躍的に向上し、生産性の大幅な向上が期待できます。
2023年
 

宇 宙

インターステラテクノロジズ社様の ロケットZERO用エンジン(COSMOS)の燃焼器 製造に当社の銅電鋳技術が採用されました。

 

製 鉄

連続鋳造用モールドのひび割れ対策に「TAP-Ⅱe」 を新規開発致しました。これにより寿命を2倍以上に向上させることが可能になりました。

2022年
 

特殊船舶

「川崎ジェットフォイル」501ガスタービンエンジンの修理に関して、当社のLMD加工技術が川重明石エンジニアリング様より設計会社ロールスロイス社の了解を頂き、修理認可を取得しました。

 

フィルム

長尺軽量ロールに対応した 特殊Niめっき設備を新規開発・導入致しました。

 

加速器

北米向け加速器部品に当社の 銅めっき が採用されました。

2021年
 

フィルム

業界最高レベルの表面粗度 Sa2nm(Ra0.002µm相当)の 超鏡面ロール施工 を開始しました。
2020年
 

二次電池

リチウム電池生産設備向けに 大型ロール対応の高精度研磨機を導入 致しました。

 

半導体

半導体をはじめとする電子部品チップマウンターに、当社 DLC「タフカーボン」 が採用されました。これにより部品寿命が飛躍的に延び、生産性の大幅な向上に寄与しました。
2019年
 

宇 宙

H3用ロケットエンジン(LE-9)燃焼室用銅電鋳めっきパイロットラインを納入 致しました。

 

加速器

高エネルギー加速器研究機構様向けに 加速器用銅めっき を新規開発し、採用されました。

 

フィルム

大径・長尺CFRPめっき に対応した設備・技術を新規開発致しました。
2018年
 

医療機器

微量採血用穿刺針に当社の 電鋳技術 が採用されました。
2017年
 

加速器

欧州向け加速器関連部品に当社の 無光沢ピロリン酸銅めっき が採用されました。

 

二次電池

福山工場表面処理課にて、環境に優しい ノンシアンタイプ銀めっき設備 を導入しました。
2016年
 

フィルム

ウェブハンドリング用としてグリップ力を強化した、特殊マット皮膜 を販売開始しました。

 

加速器

北米向け加速器関連部品に当社の 無光沢ピロリン酸銅めっき が採用されました。

 

品 質

福山工場新規事業課にて航空宇宙産業品質マネジメントシステム規格 JIS Q 9100 を取得しました。
2015年
 

フィルム

精密切削用皮膜「快削くん」が、岩木トライボコーティングネットワークアワードの”事業賞”を受賞 しました。
2014年
 

加速器

国立台湾放射光研究センター様向け加速器関連部品に当社、 無光沢ピロリン酸銅めっき が採用されました。
2013年
 

半導体

コンデンサーメーカー様向け測定プローブで 皮膜「タフコンダクター」が採用され、 ハンダ汚れの問題を解決しました。
2012年
 

製 鉄

耐クラック・耐腐食モールド用溶射皮膜 「TC2」 「TC3」 を販売開始しました。

2011年
 

二次電池

リチウムイオン電池各社様に 高精度プレスロール への R62めっき を提案し、ご採用頂きました。これによりプレスロールの長寿命化に貢献しました。

 

半導体

導電性DLC「タフコンダクター」が、SWTW(米IEEE半導体ウエハーテスト学会)において最優秀感銘賞を受賞しました。
2010年
 

フィルム

光学フィルムメーカー各社様に、当社製コーターロールが採用され、量産を開始しました。

 

加速器

高エネルギー加速器研究機構様向け、加速器用カップラーに当社の 無光沢ピロリン酸銅めっき が評価され採用されました。(R&D)

 

フィルム

精密切削メーカーの彦山精機様から、「快削くん」が高く評価され、光学シート用エンボスロールにご採用いただきました。これにより超微細形状の大幅な改善につながったそうです。
2009年
 

製 紙

製紙各社様のコートマシーンに、当社提案の ブレード が採用され、塗工紙の品質向上に貢献しました。
2008年
 

フィルム

光学フィルムメーカー様向けの各種ロールに 鏡面仕上タングステンカーバイト皮膜 の高い光沢性が評価され採用されました。
2007年
 

加速器

高エネルギー加速器研究機構(KEK)様に 当社設計のニオブの電解研磨設備を納入 いたしました。
2006年
 

電子機器

電子機器メーカー様向けの摺動部品に 超高硬度DLC「タフカーボン」 が採用されました。 これによりシリコンチップによる部品損傷の問題が解決されました。
2005年
 

印 刷

オフセット印刷機各社様に、当社の 高親水クロムめっき が採用され、画質が飛躍的に向上しました。
1997年
 

加速器

高エネルギー加速器研究機構(KEK)様向け、Bファクトリー空洞に当社の 光沢ピロリン酸銅めっき 技術が採用され量産を開始しました。

1994年
 

原子力

原子力発電プラントの蒸気発生装置に当社の クロムめっき 技術が採用されました。
1993年
 

製 紙

当社のめっきブレードが、塗工紙における品質の向上と生産性の改善を評価され、日本紙パルプ技術協会様より佐々木賞をいただきました。

 

製 鉄

製鉄各社様に連続鋳造用モールドへの合金めっき 「タフアロイ-Ⅱ」 が採用されました。この皮膜は今日においても連続鋳造モールド保護皮膜のベースロードとなっております。
1991年
 

建 機

光陽精機様に、自動めっき・バフ研磨装置を納入しました。

 

印 刷

印刷機用ロール専用工場を増設し量産を開始しました。
1986年
 

宇 宙

H-Ⅱロケットの主燃焼室に当社の銅電鋳技術が採用され、技術の供与と銅電鋳設備を納入いたしました。

 

加速器

トリスタン計画用加速空洞に当社の 銅めっき技術 及びニオブの電解研磨技術が採用され 納入を開始しました。
1978年
 

製 鉄

製鉄各社様に連続鋳造用モールドへの合金めっき「タフアロイ-Ⅰ」が採用されました。
1976年
 

海洋開発

海洋科学技術センター様より、高圧実験水槽(しんかいシリーズ用)に当社の ニッケルめっき 技術が採用されました。
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